中文名:四(甲乙基氨基)铪(IV)
外文名:Tetrakis (ethylmethylamino) hafnium (IV)
化学式:Hf[N(CH3)(C2H5)]4
分子量:410.9
CAS号:352535-01-4
熔点:<-50 °C
沸点:78 °C
闪点: :52 °F
密度:1.324 g/mL at 25 °C(lit.)
外观:无色至黄色液体
存储条件:2-8°C
品名: | 四(甲乙氨基)铪 |
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用途: | 四(甲乙基氨基)铪(IV)在薄膜沉积领域可作为CVD、ALD的主要原材料,用于沉积铪的前驱物,制备铪氧化物薄膜,可以用于COMS和下一代DRAM的高k绝缘材料;应用于新型阻变/忆阻器件(RRAM);应用于铁电存储器件(FeRAM)、铁电场效应晶体管(FeFET)、铁电负电容晶体管(NC-FET)、铁电隧道结等新功能器件;替代二氧化硅,作为金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)的栅极。 |
别名 | 四(乙基甲基胺基)铪(IV);四(甲乙氨基)铪 |
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